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脈沖電鍍有3個關鍵可調(diào)沉積參數(shù)，頻率f、占空比R和平均電流密度Jm。脈沖電鍍即是通過調(diào)節(jié)波形與這些沉積參數(shù)來改變沉積過程，從而提高鍍層質(zhì)量。為尋找電鍍錒系元素的最佳脈沖沉積條件，需研究脈沖電鍍中以上3個關鍵可調(diào)參數(shù)之對脈沖電沉積產(chǎn)生的影響。?
在1次脈沖沉積過程中，脈沖頻率f、占空比R和電流密度均為預先設定，它們在沉積過程中同時起作用，這就需尋找3個可變參數(shù)的最佳搭配條件，從而提高沉積效率和沉積層質(zhì)量。?
為研究這些可變參數(shù)的影響，引入了正交實驗法。首先，通過正交實驗法確定各參數(shù)的影響權(quán)重，并初步確定優(yōu)化參數(shù)，然后只變化其中的某一參數(shù)，逐一進行各參數(shù)的影響研究。?
本工作選擇頻率f、占空比R、電流密度Jm作為正交法中的影響因素，另外，又加入了沉積介質(zhì)這一影響因素，共考察4個因素，每個因素選取3個水平。f、Jm與沉積介質(zhì)三者的極差基本相同，而R的極差為2.8。由此可見，對沉積率影響較大的是f、Jm與沉積介質(zhì)，R影響很小。R在10%～30%范圍內(nèi)變化，水平均值變化不大；Jm為較高電流強度20mA時，沉積率最高，這與我們早期實驗中得出的經(jīng)驗值相一致。超過此電流值，鍍層質(zhì)量惡化；低于此電流值，沉積率降低。沉積介質(zhì)異丙醇略優(yōu)于DMF，但實驗中發(fā)現(xiàn)，DMF鍍層的牢固性優(yōu)于異丙醇。最后，初步篩選出優(yōu)化后的沉積條件為：f=800Hz，R=20%或30%，Jm=20mA，沉積介質(zhì)選用DMF。??
